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用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了TiN及Ti／TiN薄膜，研究了氮气与氩气流量比、沉积时间、靶功率和基片台温度对TiN及Ti／TiN薄膜显微硬度的影响，用XRD对薄膜的物相进行了分析，用SEM观察了薄膜的表面形貌，制备出了显微硬度／HV为1097．433的Ti／TiN薄膜。讨论了Ti／TiN薄膜显微硬度提高机理。