【摘 要】
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用X射线衍射技术分析在高温退火过程中GaAs晶片和石墨接触区域的热应力对晶体缺陷的影响 .结果表明 :在高温退火条件下 ,GaAs晶体与石墨接触区域散热不均匀造成的热应力 ,致
【机 构】
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北京有色金属研究总院半导体材料国家工程研究中心
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用X射线衍射技术分析在高温退火过程中GaAs晶片和石墨接触区域的热应力对晶体缺陷的影响 .结果表明 :在高温退火条件下 ,GaAs晶体与石墨接触区域散热不均匀造成的热应力 ,致使该区域范性形变 ,从而产生高密度的位错 .GaAs晶体中的刃型位错受热应力作用向垂直滑移面的平面移动 ,聚集后可形成小角晶界 ,从而导致GaAs晶体的晶格参数和取向均发生变化
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