【摘 要】
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目的观察腭顶高度与可摘局部义齿对后腭边缘适合性,以确定适当的用材和技术.方法采用由室温经40分钟升温至100℃,维持30分钟的水浴聚合法,用贺利氏公司生产的基托材料,分别为
【机 构】
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中山大学光华口腔医学院·,附属口腔医院修复科
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目的观察腭顶高度与可摘局部义齿对后腭边缘适合性,以确定适当的用材和技术.方法采用由室温经40分钟升温至100℃,维持30分钟的水浴聚合法,用贺利氏公司生产的基托材料,分别为腭顶高度为14mm和7 mm的上颌模型制作活动义齿基托,用读数显微镜(0.005 mm),在开盒后及浸水1周时,测量基托后腭边缘的适合性.结果基托适合性受腭顶高度的影响具有统计学意义,高腭项基托的适合性较低腭顶者差(P<0.05).结论适当刮除可摘局部义齿石膏模型上后腭边缘可提高基托适合性,建议刮除的深度可随腭顶高度的不同而不同.腭顶高
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