Fractal Characteristics and Microstructure Evolution of Magnetron Sputtering Cu Thin Films

来源 :Chinese Journal of Mechanical Engineering | 被引量 : 0次 | 上传用户：xuezhiyong2003

【摘要】

：

怎么描述特征的表面形态学和微观结构进化是当前的薄电影研究的最热的研究。但是在表面形态学的传统的描述，粗糙参数是联系的规模。并且薄电影的微观结构进化在期间处理以后通

【作者】

：

DU Shiwen LI Yongtang

【机构】

：

SchoolofMaterialsScienceandEngineering

【出处】

：

Chinese Journal of Mechanical Engineering

【发表日期】

：

2013年1期

【关键词】

：

微观组织演变磁控溅射沉积分形方法铜薄膜特征和微观结构粗糙度参数表面粗糙度 fractal dimension metal thin film

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怎么描述特征的表面形态学和微观结构进化是当前的薄电影研究的最热的研究。但是在表面形态学的传统的描述，粗糙参数是联系的规模。并且薄电影的微观结构进化在期间处理以后通常没详细被考虑。给薄电影地形学的粗糙的更好的理解，分数维的方法被执行。另外，薄电影的微观结构进化基于晶体学和精力理论被分析。Cu 薄电影被磁控管劈啪作响在 Si (100 ) 底层上扔，然后在不同温度退火了。表面地形学被原子力量显微镜(AFM ) 描绘。三角形的棱柱表面区域(TPSA ) 算法被用来计算 AFM 图象的分数维的尺寸。明显的规模效果

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