【摘 要】
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回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾（KDP/DKDP）晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室
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回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾（KDP/DKDP）晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键光学元件激光负载能力的提高,建立了大口径光学元件激光预处理平台,实现了基频介质膜元件的激光预处理工程化作业。比较了纳秒和亚纳秒脉冲宽度激光对DKDP晶体损伤性能的影响。基于亚纳秒激光预处理后,纳秒激光辐照至14.4J/cm2（5ns）尚未出现＂本征＂损伤的实验结果,提出了用于DKDP晶体的亚纳秒激
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