【摘 要】
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为了满足强激光系统中大尺寸镀金光栅对糟深均匀性的要求, 采用梯形光栅-涂胶-离子束溅射镀膜和全息光刻-离子束溅射镀膜两种方法, 分别制作了线密度为1 740 线/mm, 槽深为210 nm 的宽带镀金正弦光栅．测得其TM波、－1级自准值平均衍射效率在750~850 nm范围内大于87%, 最高可达90%．这两种方法易控制光栅槽深, 去掉光刻胶后基底可继续使用, 且制作的光栅的衍射效率和带宽能满足国内一般宽带镀金脉冲压缩光栅的使用要求.
【机 构】
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中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥230029新疆师范大学物理与电子工程学院,乌鲁木齐830054
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为了满足强激光系统中大尺寸镀金光栅对糟深均匀性的要求, 采用梯形光栅-涂胶-离子束溅射镀膜和全息光刻-离子束溅射镀膜两种方法, 分别制作了线密度为1 740 线/mm, 槽深为210 nm 的宽带镀金正弦光栅．测得其TM波、－1级自准值平均衍射效率在750~850 nm范围内大于87%, 最高可达90%．这两种方法易控制光栅槽深, 去掉光刻胶后基底可继续使用, 且制作的光栅的衍射效率和带宽能满足国内一般宽带镀金脉冲压缩光栅的使用要求.
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