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光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施.光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点.
光刻机的匹配和调整
【摘 要】
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光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施.光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述
【机 构】
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中国电子科技集团公司第58研究所
【出 处】
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电子与封装
【发表日期】
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2003年3期
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