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本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射，氮流量对Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性和结构的影响。实验表明，基片温度为２００℃有助于提高Ｆｅ－Ｎ薄膜的办磁性能，基片为曙和１００℃，氮流量在０～２ｓｃｃｍ范围内变化时，未发现ｒ－Ｆｅ４Ｎ和ａ－Ｆｅ１６Ｎ２，薄膜中只有Ｎ在ａ－Ｆｅ蝇的固溶体。基片温度２００℃，氮流量大于１．０ｓｃｃｍ时，薄中出现ｒ－Ｆｅ４Ｎ，但仍未发现ａ－Ｆｅ１６Ｎ２，加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁