直流磁控溅射ZnO:Al薄膜的光电和红外发射特性

来源 :北京航空航天大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tronsung123
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以锌、铝合金(ω(Al)=3%)为靶材,利用直流反应磁控溅射法制备了系列掺铝氧化锌ZnO:Al(ZAO)薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、霍耳效应及红外发射率测量仪等测试仪器或方法表征了样品的结构、形貌、光学、电学及红外发射特性.测得样品最低电阻率达到1.8×10-6(Ω*m),最大禁带宽度为3.47eV,可见光区平均透过率达到90%,8~14μm波段平均红外发射率在0.26~0.9之间.上述特性均随衬底温度和溅射功率的变化有着规律的变化.当方块电阻小于4
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