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静电雾化沉积制备PbTiO3薄膜的研究
静电雾化沉积制备PbTiO3薄膜的研究
来源 :中国陶瓷工业 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hanwenjun07
【摘 要】
:
采用静电雾化沉积技术制备了PbTiO3薄膜,探索了沉积温度和沉积时间对所制备薄膜的结构和形貌的影响.通过调节制备工艺,制备了多孔和致密的PbTiO3薄膜.测试了所制备钛酸铅薄膜
【作 者】
:
宫华
黄晖
汪敏强
刘开平
【机 构】
:
长安大学材料工程系,西安交通大学电子陶瓷与器件教育部重点实验室
【出 处】
:
中国陶瓷工业
【发表日期】
:
2005年5期
【关键词】
:
静电雾化沉积
钛酸铅
铁电薄膜
Electrostatic Spray Deposition
PbTiO3
Ferroelectric thin films
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采用静电雾化沉积技术制备了PbTiO3薄膜,探索了沉积温度和沉积时间对所制备薄膜的结构和形貌的影响.通过调节制备工艺,制备了多孔和致密的PbTiO3薄膜.测试了所制备钛酸铅薄膜的介电频率特性,在100kHz的介电常数和介电损耗分别为222和0.0247.
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