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降低CMP用SiO2溶胶中金属离子含量及其机理探析
降低CMP用SiO2溶胶中金属离子含量及其机理探析
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jackluyl
【摘 要】
:
探析了阳、阴离子树脂对SiO2溶胶中金属离子交换去除的机理,确定阳-阴-阳三步法对SiO2溶胶进行金属离子去除,而后由有机碱调节pH值至碱性稳定区,从而制得高纯度、高稳定性微
【作 者】
:
张建新
刘玉岭
王娟
张元
【机 构】
:
河北工业大学微电子研究所
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2005年7期
【关键词】
:
化学机械抛光
纳米磨料
SIO2溶胶
离子交换
chemical-mechanical polishing(CMP)
nanometer abrasive
Si
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探析了阳、阴离子树脂对SiO2溶胶中金属离子交换去除的机理,确定阳-阴-阳三步法对SiO2溶胶进行金属离子去除,而后由有机碱调节pH值至碱性稳定区,从而制得高纯度、高稳定性微电子CMP用SiO2溶胶产品.
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