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在深亚微米、超深亚微米工艺水平下的超大规模集成电路设计需要高性能的EDA（电子设计自动化，Electrical Design Automation)软件的支持，与物理设计相关的布图设计中，布局设计是一个极为重要的环节，该文以FPGA（现场可编程门电路，Field Programmable Gate Array)为例，分析和介绍了EDA中的布局算法，然后利用遗传模拟退火算法对原算法提出了改进，并在文章中介绍了改进后的算法。