Ge/GaAs中APD及薄膜性能研究

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Tianxudong
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研究了一种光纤通讯用光电探测器。在GaAs上蒸镀800nm的Ge,并在此材料基础上提出了一种吸收倍增分离的雪崩二极管(SAM-APD)的结构设计,采用GaAs作为倍增区,Ge作为吸收区。在此结构上初步制作的二极管正向开启电压为0.2~0.3V,反向击穿电压为2.5V,漏电不明显,p-n结特性良好。 A photodetector for optical fiber communication is studied. Based on this material, an avalanche-separated avalanche diode (SAM-APD) is proposed. The structure of GaAs is multiplied and Ge is taken as the absorption region. In this structure, the initial production of the diode forward turn-on voltage of 0.2 ~ 0.3V, reverse breakdown voltage of 2.5V, leakage is not obvious, p-n junction characteristics are good.
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