集成电路设备的新挑战

来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户：guyisun

【摘要】

：

一、概述集成电路按照摩尔定律已经发展了30多年,从光学曝光的技术来看,集成电路似乎已经到了极限。但是技术的一再进步使人们又充满信心,不仅0.1μm已经突破,还要发展到0.07

【作者】

：

蒋迪宝

【机构】

：

北京七星华创微电子有限公司

【出处】

：

中国集成电路

【发表日期】

：

2002年3期

【关键词】

：

集成电路制造关键设备光学曝光工艺技术集成电路生产离子注入机刻蚀设备高密度等离子体深亚微米发展

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一、概述集成电路按照摩尔定律已经发展了30多年,从光学曝光的技术来看,集成电路似乎已经到了极限。但是技术的一再进步使人们又充满信心,不仅0.1μm已经突破,还要发展到0.07μm甚至到

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