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表面波等离子体（surface-wave-sustainedplasma，SWP）是近年发展起来的一种新型低压，高密度等离子体，应用这种技术，采用物理气相沉积（PVD）方法，很容易实现镀膜过程中的离子束辅助沉积（IBAD），从而制备出性能优异的无氢碳膜．采用一种新型的SWP源沉积出无氢碳膜，用郎缪尔探针测试了不同工艺条件下的等离子体密度分布．采用正交实验设计方法，研究了沉积薄膜的膜厚分布特性，分析了膜厚分布与等离子体密度分布的关系，并对制备的工艺参数进行了优化．结果表明，这种新型的SWP源，能够产生高达1