PCVD法制备的Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜的高温氧化行为

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【摘要】

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用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）方法在高速钢基体上沉积出Ti-Si-C-N超硬薄膜．XRD，XPS及HRTEM等测试表明，薄膜由纳米晶／非晶复合结构组成（nc-Ti（C，N）／a-Si3N4／a-C-C或nc-Ti（C，N）／h-

【作者】

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郭岩徐彬吴贵智马胜利徐可为

【机构】

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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室

【出处】

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金属学报

【发表日期】

：

2007年2期

【关键词】

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Ti-Si-C-N 纳米复合超硬薄膜晶粒尺寸抗氧化温度 Ti-Si-C-N superhard nanocomposite coating crysta

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用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）方法在高速钢基体上沉积出Ti-Si-C-N超硬薄膜．XRD，XPS及HRTEM等测试表明，薄膜由纳米晶／非晶复合结构组成（nc-Ti（C，N）／a-Si3N4／a-C-C或nc-Ti（C，N）／h-Si3N4／a-Si3N4／a-C-C）．Ti（C1N）显示（200）晶面择优取向．高温氧化实验显示：随Ti含量降低和Si含量增大，Ti-Si-C-N薄膜的抗氧化温度逐步提高；当Ti含量为8．7％、Si含量为17．8％时，薄膜中出现少量晶化的密排六方结构的h-Si3

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