反应磁控溅射法制备nc－TiN／a－Si3N4薄膜的Young’s模量和内耗

来源 :金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zlotu

【摘要】

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利用振簧技术测量了不同退火状态下的nc-TiN/a-Si3N4超硬薄膜的Young's模量和内耗随温度的变化关系.在280-300℃附近观察到一个弛豫内耗峰.随着退火温度的升高,该内耗峰

【作者】

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李朝升王先平方前锋 S.Veprek 李世直

【机构】

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中国科学院固体物理研究所材料物理重点实验室,InstituteforChemistryofInorganicMaterials,青岛科技大学材料与环境科学学院

【出处】

：

金属学报

【发表日期】

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2003年11期

【关键词】

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纳米TiN/非晶Si3N4薄膜内耗 Young’8模量非稳定界面 nc-TiN/a-Si3N4 film internal friction Young

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利用振簧技术测量了不同退火状态下的nc-TiN/a-Si3N4超硬薄膜的Young's模量和内耗随温度的变化关系.在280-300℃附近观察到一个弛豫内耗峰.随着退火温度的升高,该内耗峰逐渐减弱,而Young's模量变化不大.750℃退火后,该内耗峰消失,而模量却从未退火时的430 GPa激增至530 GPa.初步认为该内耗峰来源于非稳定界面的弛豫过程.

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