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从准分子激光的概念及特点引入，概述了以248nm KrF、193nm ArF以及157nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展，并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路。
准分子激光光刻技术及进展综述
【摘 要】
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从准分子激光的概念及特点引入，概述了以248nm KrF、193nm ArF以及157nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展，并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路。
【机 构】
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天津工程师范学院电子工程系
【出 处】
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天津工程师范学院学报
【发表日期】
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2008年1期
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