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轨道分子屏极高真空实验室设计技术研究
轨道分子屏极高真空实验室设计技术研究
来源 :宇航学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:TCH376854850
【摘 要】
:
给出了一种新型的近地轨道极高真空分子屏实验室设计.作者计算了可变翼分子屏周围大气分子的入射及散射、分子屏材料放气在屏内的分子数流密度.通过调整分子屏的翼角,分子屏
【作 者】
:
达道安
崔志云
杨亚天
【机 构】
:
兰州物理研究所,河北大学,福建师范大学
【出 处】
:
宇航学报
【发表日期】
:
2005年2期
【关键词】
:
极高真空
轨道分子屏
材料加工
Extreme high vacuum Orbit molecular shield Material processing
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给出了一种新型的近地轨道极高真空分子屏实验室设计.作者计算了可变翼分子屏周围大气分子的入射及散射、分子屏材料放气在屏内的分子数流密度.通过调整分子屏的翼角,分子屏内的压力可以达到10-12Pa.计算结果指出:在近地轨道选择合适的分子屏参数,可以在极高真空环境下加工超纯材料.
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