Growth, Characterization and Micro-pattern Fabrication of Iridium/Si3N4/Si(100) Thin Films

来源 :武汉理工大学学报:材料科学英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:maomao0464
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<正>Iridium thin films have been deposited on SigN4(100 nm)/Si(100)substrates by magnetron sputtering.And then iridium film micro-patterns were fabricated by ion milling technique.The atomic force microscopy(AFM)measurements reveal that there is a ve
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