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本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌（GZO）薄膜，将溅射功率从120W调整到240W，步长为30W，研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明，溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3．31×10·Ω·cm，可见光波段平均光学透光率接近84％。随着溅射功率的增加，薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化，并直接得到具有一定凸凹不平的微结构，GZO薄膜的致密性先增加后降低。