Suppression of oxygen and carbon impurity deposition in the thermal system of Czochralski monocrysta

来源 :半导体学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:abcz123789
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When preparing large monocrystalline silicon materials,severe carbon etching and silicide deposition often occur to the thermal system.Therefore,a suppression method that optimizes the upper insulation structure has been proposed.Assisted by the finite el
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