热退火对溅射法Al-Sn共掺ZnO薄膜光电性能的影响

来源 :南京航空航天大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jin_liu
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利用射频磁控溅射方法,采用AZO靶和Sn靶共溅射的方法在钠钙玻璃衬底上制备了Al与Sn共掺杂的ZnO(ATZO)薄膜样品,再对样品进行300,350,370,400,500℃5种不同温度和1,2,4h3种不同时间的退火处理。采用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)和扫描电子显微镜(Scanning electron microscope,SEM)对其相结构及形貌进行了表征和分析。结果表明,所制备的ATZO薄膜都是六角纤锌矿结构,在(002)方向上表现出择优生长且表面都较为均匀。采用U
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