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深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用
深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liangmin888
【摘 要】
:
随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺.本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度
【作 者】
:
余国彬
姚汉民
胡松
陈兴俊
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2002年4期
【关键词】
:
深紫外深度光刻蚀
LIGA工艺
微型机电系统
微细加工
MEMS
micro-fabrication
LIGA process
deep lithograph
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随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺.本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义.
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