深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用

来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liangmin888
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随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺.本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义.
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