【摘 要】
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利用多功能等离子体浸没离子注入设备,采用等离子体浸没离子注入和沉积技术在Ti合金表面制备具有优异力学性能的TiN薄膜.研究了真空室中氮气存在状态及氮气压力对薄膜性能的
【机 构】
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西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所
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利用多功能等离子体浸没离子注入设备,采用等离子体浸没离子注入和沉积技术在Ti合金表面制备具有优异力学性能的TiN薄膜.研究了真空室中氮气存在状态及氮气压力对薄膜性能的影响:当氮以中性气体存在于真空室中,薄膜的生长主要受热力学因素控制,沿着低自由能的密排面(低指数面)TiN(111)择优生长;当氮以等离子体状态存在于真空室中,薄膜沿着高指数面TiN(220)择优生长,具有高硬度、耐磨性好的优点,并且随着N分压的提高,薄膜耐磨性提高.
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