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1.引言正当纳米技术在全球范围内掀起一场科技热潮的时候,大规模集成电路已经稳步地进入了纳米时代,特征尺寸小于100纳米的晶体管已经进入大批量生产阶段.大规模集成电路之所以能得到持续发展,主要依赖于光刻技术的不断进步.在传统半导体技术发展规划中,人们关注的下一代主要候选光刻技术是光学(包括极紫外)光刻、电子束光刻、X射线光刻和离子束光刻,而在2003年制订的<国际半导体技术发展路线>上,一种新型工具--纳米印刻技术赫然在目.