接触/接近式光刻UV-LED光源测试分析与工艺研究

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通过对比混波UV-LED(Ultraviolet Light Emitting Diode)光源和单波UV-LED光源的性能和工艺实验,优化了混波UV-LED光源光刻工艺。光源性能主要对比了两种光源最大光照强度和光强均匀度,工艺实验选用不同光照强度15 mW/cm^(2)、20 mW/cm^(2),不同曝光时间3 s和5 s,样片显影后通过光学显微镜观察样片线条形貌。结果表明:混波UV-LED光源相比单波UV-LED光源最大光照强度下降,从47.2 mW/cm^(2)降至32.8 mW/cm^(2),光强
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