气氛加压烧成氮化硅基材料中抑制ZrN生成的研究

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本文系统研究了烧成温度、氮气压力、埋粉组成及Z值对GPSZrO2-Sialon系统中的ZrN生成的影响,结果显示:通过加入有效烧结助剂(Al2O3+AIN),采用较低的烧成温度,增加埋粉中SiO分压及保护气氛氮气压力等工艺措施可有效地抑制ZrN的生成,X射线分析表明:添加16%ZrO2的Sialon(Z=1)复合材料在1750℃,氮气压力1MPa,埋粉组成的Si2N4+BN+SiO2的条件下烧结,试样表面无ZrN生成。
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