【摘 要】
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通过射频磁控溅射制备Zn-Sb预沉积薄膜,随后依次进行0~800 kGy不同剂量的电子束辐照处理和常规热退火,获得β-Zn4Sb3热电薄膜.利用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)和场发
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(11374228)
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通过射频磁控溅射制备Zn-Sb预沉积薄膜,随后依次进行0~800 kGy不同剂量的电子束辐照处理和常规热退火,获得β-Zn4Sb3热电薄膜.利用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)和场发射扫描电子显微镜(field emission scanning electron microscopy,FESEM)分析表征了薄膜的微结构和表面形貌,利用Hall效应和Seebeck效应检测了薄膜的电输运和热电性能.研究结果表明,所有样品均表现出p型导电.经电子束辐照处理的薄膜样品,其物相组成没有发
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