【摘 要】
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采用溶胶-凝胶法在硅衬底上制备了Al2O3:Tb3+薄膜;并采用DTA-TG、XRD、SEM、AFM及光致发光光谱对其进行了一系列表征;分析了Al2O3:Tb3+薄膜的发光机理,探讨了热处理温度和Tb3
【机 构】
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浙江大学材料科学与工程学系,浙江林学院理学院
【基金项目】
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浙江省重大科技计划项目(2006C11029)
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采用溶胶-凝胶法在硅衬底上制备了Al2O3:Tb3+薄膜;并采用DTA-TG、XRD、SEM、AFM及光致发光光谱对其进行了一系列表征;分析了Al2O3:Tb3+薄膜的发光机理,探讨了热处理温度和Tb3+掺杂浓度对发光性能的影响规律.研究结果表明,采用溶胶-凝胶法制备工艺,制备了高发光强度的Al2O3:Tb3+薄膜,薄膜的最佳激发波长为240nm,Tb3+的最佳掺杂浓度为5mol%(Tb2O3/Al2O3=5mol%),在240nm光激发下,最强的发射峰出现在544nm附近;并且制备的Al2O3:Tb3+薄膜表面致密、平整且无裂纹产生,表面粗糙度约为1.3nm,有利于硅基光电子器件的制备和应用.
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