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采用表面氧化外延(SOE)方法, 在金属基底上研制NiO隔离层. 通过研究温度、时间等工艺参数对形成立方织构NiO的影响, 摸索出一套可获得单一、尖锐的立方织构NiO, 重复性好, 适合于长带发展的工艺技术. 同时研究了金属基带的表面状态、织构取向对NiO(100)表面的影响. X射线极图观测可直观地看到单一的立方织构, φ扫描检测其半高宽(FWHM)均为7.5°. 扫描电镜观察NiO(100)膜层表面形貌, 无裂纹且较为致密.