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讨论了影响TiO2薄膜光催化性能的主要因素，如TiO2薄膜的晶体结构、晶粒尺度以及薄膜表面积和厚度等。介绍了提高TiO2薄膜光催化活性的三种主要途径，包括表面预处理、复合半导体以及金属沉积，对TiO2薄膜几种重要的制备方法和应用事例进行了叙述，并展望了此功能薄膜的应用前景。
光催化活性TiO2薄膜的研究进展
【摘 要】
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讨论了影响TiO2薄膜光催化性能的主要因素，如TiO2薄膜的晶体结构、晶粒尺度以及薄膜表面积和厚度等。介绍了提高TiO2薄膜光催化活性的三种主要途径，包括表面预处理、复合半导体
【机 构】
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电子科技大学微电子与固体电子学院
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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2006年3期
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