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利用TSUPREM-4对低压VDMOS进行虚拟制造
利用TSUPREM-4对低压VDMOS进行虚拟制造
来源 :现代电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Xusian
【摘 要】
:
介绍了低压VDMOS的结构和各个参数及相互间的关系,并按TSUPREM-4工艺仿真软件的工艺流程顺序给出了各步工艺的设计思路、方法、注意事项。对外延层厚度进行了计算,并用该软件
【作 者】
:
白朝辉
王标
【机 构】
:
西安卫光科技有限公司
【出 处】
:
现代电子技术
【发表日期】
:
2007年15期
【关键词】
:
低压VDMOS
TSUPREM-4
工艺模拟
导通电阻
low - voltage VDMOS
TSU PREM - 4
process simulat
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介绍了低压VDMOS的结构和各个参数及相互间的关系,并按TSUPREM-4工艺仿真软件的工艺流程顺序给出了各步工艺的设计思路、方法、注意事项。对外延层厚度进行了计算,并用该软件实现了耐压55 V,导通电阻11 MΩ的低压VDMOS器件结构的工艺设计,绘出了仿真结构图。
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