【摘 要】
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本文研究了平面源扩散系统的特性与气体流速、气体成分以及系统几何尺寸的关系。业已发现:此系统在低的流速、大的装片密度情况下。片与薄层电阻的均匀性能控制在±2%之内,批
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本文研究了平面源扩散系统的特性与气体流速、气体成分以及系统几何尺寸的关系。业已发现:此系统在低的流速、大的装片密度情况下。片与薄层电阻的均匀性能控制在±2%之内,批次重复性可控制在±4%。概述了在平面源系统中的扩散率和蒸气压的作用。描述了控制这些参数的方法。
In this paper, the relationship between the characteristics of planar source diffusion system and gas flow rate, gas composition and system geometry is studied. It has been found that this system operates at low flow rates and large packing densities. Sheet and sheet resistance uniformity within the control of ± 2%, batch repeatability can be controlled at ± 4%. The effects of diffusivity and vapor pressure in a planar source system are outlined. Describes the methods for controlling these parameters.
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