CrN/SiNx纳米多层膜的热稳定性研究

来源 :吉林师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：shabaoge

【摘要】

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利用反应磁控溅射方法制备了一系列不同调制比的多晶CrN/SiNx纳米多层膜.对多层膜在900℃条件下进行真空退火4个小时.结果发现,当调制周期中SiNx的层厚较小时,退火后发生了明

【作者】

：

安涛郑伟涛王丽丽

【机构】

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长春大学理学院,吉林大学材料科学与工程学院

【出处】

：

吉林师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2010年2期

【关键词】

：

CrN/SiNx 纳米多层膜界面宽度 CrSiyN1-y CrN/SiNx nano-multilayer coatings interfacial wi

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利用反应磁控溅射方法制备了一系列不同调制比的多晶CrN/SiNx纳米多层膜.对多层膜在900℃条件下进行真空退火4个小时.结果发现,当调制周期中SiNx的层厚较小时,退火后发生了明显的界面融混;而当调制周期中SiNx层厚较大时,退火后不但没有发生界面融混,反而使界面变得更加清晰,这一变化和界面处CrSiN相的析出有关,相的析出有利于界面的平滑和多层膜热稳定性的提高.

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