【摘 要】
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以一种聚硅氧烷类有机硅树脂YR3370（GE Toshiba Silicones）为连接剂，连接了反应烧结SiC（RBSiC）陶瓷和高强石墨。连接件在1100-1400℃的99．99％N2气流中进行热处理。用X射线衍射仪和红
【机 构】
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北京航空航天大学材料科学与工程学院
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以一种聚硅氧烷类有机硅树脂YR3370（GE Toshiba Silicones）为连接剂，连接了反应烧结SiC（RBSiC）陶瓷和高强石墨。连接件在1100-1400℃的99．99％N2气流中进行热处理。用X射线衍射仪和红外光谱仪分析有机硅树脂YR3370裂解产物的结构和变化，用扫描电镜观察连接件的显微结构，用材料试验机测定连接件的三点弯曲强度。连接温度为1300℃时，连接件的三点弯曲强度达最大值18.3MPa，为石墨母材强度的45．8％。连接层是有机硅树脂YR3370裂解生成的无定形SixOyCz陶瓷
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