低剂量SIMOX圆片表层硅缺陷密度

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用增强化学腐蚀法研究了低剂量SIMOX-SOI材料表层硅质量与实验参数的关系,结果表明,注入剂量的能量对表层硅质量有明显影响,通过对注入剂量和能量的优化,表层硅线缺陷密度可低于10^4cm^-2,在注入能量为160keV时,获得低线缺陷密度对应的注入剂量为5.5×10617cm^-2左右,当注入剂量为4.5×10^17cm^-2,获得低线缺陷密度对应的注入能量为130keV.
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