【摘 要】
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用增强化学腐蚀法研究了低剂量SIMOX-SOI材料表层硅质量与实验参数的关系,结果表明,注入剂量的能量对表层硅质量有明显影响,通过对注入剂量和能量的优化,表层硅线缺陷密度可低于10
【机 构】
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中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室,中国科学院上海冶金研究所离子束?
【基金项目】
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国家自然科学基金委员会国家杰出青年基金资助项目 (批准号 :5 992 5 2 0 5)
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用增强化学腐蚀法研究了低剂量SIMOX-SOI材料表层硅质量与实验参数的关系,结果表明,注入剂量的能量对表层硅质量有明显影响,通过对注入剂量和能量的优化,表层硅线缺陷密度可低于10^4cm^-2,在注入能量为160keV时,获得低线缺陷密度对应的注入剂量为5.5×10617cm^-2左右,当注入剂量为4.5×10^17cm^-2,获得低线缺陷密度对应的注入能量为130keV.
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