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PtSi薄膜超薄化及连续性研究
PtSi薄膜超薄化及连续性研究
来源 :激光与红外 | 被引量 : 0次 | 上传用户:pizaiyang
【摘 要】
:
减薄膜厚有利于提高PtSi红外探测器的量子效率.本文研究了膜厚减薄工艺对薄膜连续性的影响,用XRD观察物相,SEM、TEM研究薄膜连续性,并给出理论解释.实验表明用混合生长(S-K)
【作 者】
:
刘爽
宁永功
陈艾
刘俊刚
杨家德
李昆
【机 构】
:
电子科技大学信息材料工程学院,成都,610054重庆光电技术研究所,重庆,400061;材料工程研究院,新加坡,119260;
【出 处】
:
激光与红外
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
PtSi膜
超薄膜
连续性
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减薄膜厚有利于提高PtSi红外探测器的量子效率.本文研究了膜厚减薄工艺对薄膜连续性的影响,用XRD观察物相,SEM、TEM研究薄膜连续性,并给出理论解释.实验表明用混合生长(S-K)模式能形成超薄连续薄膜.
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