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基于扫描电镜（SEM）的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求。在电子束曝光系统中，需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光。从安装位置、机械结构和驱动器等方面讨论快速束闸的设计。
基于SEM纳米级电子束曝光机的快速束闸设计
【摘 要】
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基于扫描电镜（SEM）的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求。在电子束曝光系统中，需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光。从安
【机 构】
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中国科学院电工研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2008年10期
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