溅射功率对直流磁控溅射TiO2薄膜光学性能的影响

来源 :河南科技大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hanlu198723620
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通过改变溅射功率,使用直流磁控溅射设备,在玻璃衬底上制备了系列TiO2薄膜。分别用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和椭偏光谱仪测试了TiO2薄膜的形貌、结构及厚度。使用紫外-可见分光光度计测试了TiO2薄膜的光学性能。使用TiO2薄膜降解罗丹明B溶液测试了其光催化活性。研究结果表明:溅射功率增大,薄膜的透射谱及吸收谱在紫外出现明显的“红移”现象,光学带隙从3.51eV减小到3.40eV。适当提高溅射功率有利于提高TiO2薄膜的光催化活性,当溅射功率为213W时,薄膜的光催化性能最好。
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