【摘 要】
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采用溶液法在玻璃基底上制备了Cu2SnS3薄膜,研究了不同退火温度对Cu2SnS3薄膜性能的影响,采用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、场发射扫描电子显微镜和紫外-可见分光光度计分别表征
【机 构】
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西北师范大学物理与电子工程学院,中国科学院兰州化学物理研究所
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采用溶液法在玻璃基底上制备了Cu2SnS3薄膜,研究了不同退火温度对Cu2SnS3薄膜性能的影响,采用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、场发射扫描电子显微镜和紫外-可见分光光度计分别表征了薄膜的物相结构、形貌和光学性能.结果表明,退火温度对Cu2SnS3薄膜的相结构、形貌及光学性能有显著影响,随着退火温度的升高,薄膜中的晶粒尺寸明显增大,结晶性也有所增加;退火温度为500℃时,可以生成单相的Cu2SnS3薄膜;在不同退火温度下所制备薄膜的禁带宽度均接近1.05eV.
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