磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究

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为制备硼边附近6.7nm波长的极紫外高反射率多层膜反射镜,研究了Mo2C/B4C,Mo/B4C周期多层膜,重点解决薄膜应力难题。采用直流磁控溅射技术制备了膜层厚度为30nm的Mo,Mo2C,B4C单层膜,周期厚度为3.5nm,30对的Mo2C/B4C,Mo/B4C周期多层膜。利用台阶仪测试了镀膜前后基底面形,计算并比较了不同薄膜样品的应力值。结果表明Mo:C/B。C多层膜压应力要远小于Mo/B4C多层膜,且成膜质量与Mo/B4C相当。因此Mo2C/B4C是应用于6.7nm反射镜较好的多层膜材料组合。
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