【摘 要】
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根据目前国内半导体工艺水平的现状，提出了一种制作ＩＧＢＴ的工艺方法──三重扩散法，并着重用器件模拟的方法，从理论上分析和证实了三重扩散法在高压ＩＧＢＴ器件制作上的优点和可行性，并用实验
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根据目前国内半导体工艺水平的现状，提出了一种制作ＩＧＢＴ的工艺方法──三重扩散法，并着重用器件模拟的方法，从理论上分析和证实了三重扩散法在高压ＩＧＢＴ器件制作上的优点和可行性，并用实验结果验证其正确性。
According to the current status of semiconductor technology in China, this paper presents a process of making IGBT - triple diffusion method, and focuses on the use of device simulation method, and theoretically analyzes and confirms the advantages of triple diffusion method in the manufacture of high-voltage IGBT devices And feasibility, and verify the correctness of the experimental results.
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