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采用直流溅射方法在化学气相沉积（CVD）金刚石膜表面镀上一层铁薄膜，在氢等离子体条件下利用铁对金刚石膜的快速刻蚀实现初抛光，然后再进行机械抛光，提高抛光效率。
铁刻蚀CVD金刚石膜辅助机械抛光
【摘 要】
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采用直流溅射方法在化学气相沉积（CVD）金刚石膜表面镀上一层铁薄膜，在氢等离子体条件下利用铁对金刚石膜的快速刻蚀实现初抛光，然后再进行机械抛光，提高抛光效率。
【机 构】
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武汉工程大学湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室
【出 处】
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硬质合金
【发表日期】
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2007年4期
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