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首次将共面型介质阻挡放电（C—DBD）应用于蒸发聚四氟乙烯（PTFE）并沉积制备了碳氟膜，制备的碳氟膜尺寸为50～100nm，其表面均方根（RMS）粗糙度为15．55nm（测量面积为10μm×10μm）。发射光谱表明，C—DBD产生了能量较高的电子激发态Ar原子（12．9～13．5eV）。该方法装置简单，在常温常压下操作，薄膜沉积速率快，而且环境友好．