【摘 要】
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本文通过对晶体硅表面热氧化动力学数据的分析,阐明了有关SiO_2-Si界面结构缺陷的来源及其形成条件、形成过程及其特性。唯象地描述了这些缺陷与金的互作用,进一步阐明了金的
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本文通过对晶体硅表面热氧化动力学数据的分析,阐明了有关SiO_2-Si界面结构缺陷的来源及其形成条件、形成过程及其特性。唯象地描述了这些缺陷与金的互作用,进一步阐明了金的界面效应。通过分析得出了如下结论:
Based on the analysis of the thermal oxidation kinetics data on the surface of crystalline silicon, the source, formation conditions, formation process and characteristics of the structural defects of SiO_2-Si interface are clarified. The phenomenological description of the interaction of these defects with gold further elucidates the interface effect of gold. Through the analysis of the following conclusions:
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