【摘 要】
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采用中频交流磁控溅射方法制备了CuIn、CuAl和CIA合金膜。并用SEM及XRD观察和分析了各种薄膜的表面形貌、成分和组织结构,着重分析了靶功率密度对薄膜成分、晶体结构的影响。
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采用中频交流磁控溅射方法制备了CuIn、CuAl和CIA合金膜。并用SEM及XRD观察和分析了各种薄膜的表面形貌、成分和组织结构,着重分析了靶功率密度对薄膜成分、晶体结构的影响。结果表明,通过调节靶功率密度,能精确控制薄膜中CuI、n、Al比例。制备得到了Cu/(In+Al)原子比接近1,且Al/(In+Al)比例可调的成分分布均匀的CIA薄膜。CIA前驱膜是以CuIn和In为基础相,Al原子主要是以替代In原子的固溶体形式存在。当溅射CuIn合金靶和CuAl复合靶的功率密度分别为0.20和0.15 W/cm2时,可制备得到由Cu11In9和CuIn两相组成的理想的CIA前驱膜。
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