【摘 要】
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研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺。分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应。通过脉冲微电镀实验,讨
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,中国科学院研究生院
【基金项目】
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基金项目：国家“863”计划资助项目（A类）（No.06593NQ070）,中科院创新信息基地项目
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研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺。分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应。通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/m in,表面平均粗糙度约为4.376nm。
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