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LPCVD设备是目前国内外半导体集成电路,半导体光电器件制备工艺中常用的CVD设备之一。简要分析正硅酸乙酯源低压化学气相淀积法淀积SiO2膜过程中产生的问题,并根据实际使用的经验,对低压化学气相淀积法设备在生产过程中出现的问题进行讨论,分析和总结其维护及保养措施。
LPCVD设备维护保养的重要性分析
【摘 要】
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LPCVD设备是目前国内外半导体集成电路,半导体光电器件制备工艺中常用的CVD设备之一。简要分析正硅酸乙酯源低压化学气相淀积法淀积SiO2膜过程中产生的问题,并根据实际使用的
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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天津科技
【发表日期】
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2018年06期
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