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采用真空蒸发法，以Ti3O5为膜料分别在基片温度为200℃、250℃、300℃的条件下制备氧化钛光学薄膜，XRD结果显示，沉积态薄膜为无定形态，400℃退火后，均由无定形态向锐钛矿结构转变；不同基片温度下制备的氧化钛薄膜退火后，折射率均随基片温度的升高而增大；随着退火温度的升高，（101）晶相择优取向十分明显，结晶度增大；经过400℃、500℃、600℃退火后，薄膜折射率逐渐上升。